等離子清洗機原理

什么是等離子體：

等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊情況下可以以第四種狀態(tài)存在，如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的轉(zhuǎn)態(tài)稱為等離子體轉(zhuǎn)態(tài)，又稱為物質(zhì)的第四態(tài)。

在等離子體中存在下列物質(zhì)，處于高速運動轉(zhuǎn)態(tài)的電子，處于激發(fā)轉(zhuǎn)態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子、分子解離反應(yīng)過程中生成的紫外線，未反應(yīng)的分子，原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生的物質(zhì)。等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電磁場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也越來越長，受磁場作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時會發(fā)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)空間運動，并轟擊被處理物體表面，從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。

等離子清洗機工作原理分析：電漿與材料表面可產(chǎn)生的反應(yīng)主要有兩種，一種是靠自由基來做化學(xué)反應(yīng)，另一種則是靠等離子作物理反應(yīng)。

（1）化學(xué)反應(yīng)

在化學(xué)反應(yīng)里常用的氣體有氫氣（H2）、氧氣（O2）、甲烷（CF4）等，這些氣體在電漿內(nèi)反應(yīng)成高活性的自由基，其方程式為：這些自由基會進一步與材料表面作反應(yīng)。其反應(yīng)機理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學(xué)反應(yīng)，在壓力較高時，對自由基的產(chǎn)生較有利，所以若要以化學(xué)反應(yīng)為主時，就必須控制較高的壓力來近進行反應(yīng)。

（2）物理反應(yīng)

主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉，由于離子在壓力較低時的平均自由基較輕長，有得能量的累積，因而在物理撞擊時，離子的能量越高，越是有的作撞擊，所以若要以物理反應(yīng)為主時，就必須控制較的壓力下來進行反應(yīng)，這樣清洗效果較好，為了進一步說明各種設(shè)備清洗的效果。

等離子體清洗機的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面。

技術(shù)特點：

1.艙體、管路、閥體全部為不銹鋼材料，耐用、防腐容易清潔。

2.儀器實現(xiàn)了手動，自動兩種模式任意切換的工作方式，方便用戶實驗

3.儀器實現(xiàn)了程序化設(shè)計，預(yù)先編輯好程序，儀器可以自動完成實驗

4.無需任何耗材使用成本低，無需特殊進行維護,日常使用保持儀器清潔即可

5.電容式等離子激發(fā)，處理效果均勻，激發(fā)電極板內(nèi)置樣品倉內(nèi)頂部懸掛

6.密閉真空環(huán)境下完成實驗避免二次污染

7.40Khz射頻電源,自主研發(fā)質(zhì)量穩(wěn)定可靠，具有自動保護功能。

8.靈活的參數(shù)設(shè)置和修改功能，可適應(yīng)多種處理工藝。

9.采用皮拉尼真空技術(shù)，實時檢測和顯示樣品倉的真實真空度，具有1Pa的真空分辨率，能夠方便的接入MFC氣體流量控制儀，實現(xiàn)對氣體流量和真空度的精控制和監(jiān)測。

10. LED+金屬按鍵控制方式，操作方便穩(wěn)定可靠。