EDI超純水設(shè)備
EDI(Electro-de-ionization,continuouselectro-de-ionzation)又被稱(chēng)為CDI和連續(xù)電除鹽。該技術(shù)是二十世紀(jì)八十年代以來(lái)逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過(guò)十幾年的發(fā)展EDI在歐美等國(guó)己普遍使用，且占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場(chǎng)。在國(guó)內(nèi)此項(xiàng)技術(shù)的應(yīng)用在起步階段,有蓬勃發(fā)展的態(tài)勢(shì)。EDI廣泛地應(yīng)用于電子、電力、生物、制藥、化工等諸多領(lǐng)域，是傳統(tǒng)離子交換混床工藝的佳取代技術(shù)。EDI的出現(xiàn)是水處理技術(shù)的一次革命性的進(jìn)步，標(biāo)志著水處理工業(yè)全面跨入綠色產(chǎn)業(yè)的行列。
工作原理 
陜西鹿鳴水處理技術(shù)有限公司生產(chǎn)的EDI設(shè)備是將離子交換樹(shù)脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間形成EDI單元。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開(kāi)，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下，通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水。EDI設(shè)備一 般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率-般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18MΩ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。
工作流程
1、采用離子交換樹(shù)脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為:原水→沙炭過(guò)濾器一>精密過(guò)濾器- →原水箱一 陽(yáng)床- >陰床- →混床-→純水箱→純水泵-→后置精密過(guò)濾器一→用水點(diǎn)。
2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式，其基本工藝流程為:原水- +沙炭過(guò)濾器- +精密過(guò)濾器- +原水箱- +反滲透設(shè)備- >混床+純水箱- +純水泵-后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)。
3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨?原水→沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器+原水箱一 反滲透設(shè)備→電去離(EDI) -→純水箱→純水泵+后置精密過(guò)濾器→ 用水點(diǎn)。

設(shè)備特點(diǎn)
1.可連續(xù)生產(chǎn)，產(chǎn)水電阻率高≥15MΩ.cm, 產(chǎn)水率可以高達(dá)95%，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定。不需要配酸堿再生。
2.無(wú)污水產(chǎn)生，系統(tǒng)控制自動(dòng)化程度高，操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強(qiáng)度低
3.連續(xù)運(yùn)行，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，無(wú)需酸堿再生，利于環(huán)保。
4.產(chǎn)水率高，占地面積小，操作簡(jiǎn)單，容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制。
5.性能穩(wěn)定，維修工作量小;運(yùn)行維護(hù)成本低。
應(yīng)用范圍
適用于電子行業(yè)如顯像管玻殼、顯像管、單晶硅半導(dǎo)體、印刷線(xiàn)路板、液晶顯示器、光盤(pán)、計(jì)算器硬盤(pán)、集成電路芯片等清洗用水。

技術(shù)參數(shù)

操作壓力: 3(Mpa)

水電阻率: 5-18.25兆歐，出水量: 1-100t/h

外形尺寸: 設(shè)計(jì)而定(cm)，電壓: 380 (V)

卜水質(zhì): 高純水

功率:設(shè)計(jì)而定(w)

電導(dǎo)率: 10us/cm，脫鹽率: 99.99(%)

單機(jī)出力: 1-100t/h