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二氧化硅混合機

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產(chǎn)品型號PLD2000/4

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更新時間：2016-08-15 15:26:55瀏覽次數(shù)：216次

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上海依肯機械設(shè)備有限公司

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

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聯(lián)系人：段明明（銷售工程師）

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產(chǎn)品簡介

面對粉末難易團聚，難以分散，粉塵飛揚的粉體處理工藝中Z常見的問題，IKN依肯研發(fā)了PLD2000系列產(chǎn)品，專門用于解決粉液在線混合分散的問題。

詳細介紹

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二氧化硅的重要用途
二氧化硅的用途很廣。自然界里比較稀少的水晶可用以電子工業(yè)電子的重要部件、光學儀器和工藝品。
氣相法二氧化硅是極其重要的高科技超微細無機新材料之一，由于其粒徑很小，因此比表面積大，表面吸附力強，表面能大，化學純度高、分散性能好、熱阻、電阻等方面具有特異的性能，以其*的穩(wěn)定性、補強性、增稠性和觸變性，在眾多學科及領(lǐng)域內(nèi)*特性，有著不可取代的作用。氣相二氧化硅質(zhì)量小,很輕,極易飛揚,廣泛應用于化妝品等行業(yè)。通常用作補強劑,穩(wěn)定劑或粘度調(diào)節(jié)劑。
二氧化硅的分散難點

二氧化硅加工的難點在于濕化并達到相應的粘度。而且和水（溶劑）混合后容易團聚，IKN在這個行業(yè)擁有豐富的經(jīng)驗,能夠滿足不同客戶的要求。

IKN混合設(shè)備在二氧化硅的分散中的優(yōu)勢

①消除粉塵。IKN為氣相二氧化硅與水的混合,設(shè)計多種解決方案。粉體直接從包裝袋中吸入,或者可以跟您的工程師一起特殊定制工藝。

②改善容器清潔問題。使用IKN在線粉體液體混合系統(tǒng),能夠消除容器壁的物料殘留,改善清潔,并減少原材料浪費。

③zui大化成分功能。很多公司在濕化二氧化硅工藝上都遇到困難,通常需要足夠的剪切力來達到材料活性和特定粘度,只有IKN可以提供這種類型的剪切分散機,為氣相二氧化硅濕化混合提供足夠的剪切力。
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面對粉末難易團聚，難以分散，粉塵飛揚的粉體處理工藝中zui常見的問題，IKN依肯研發(fā)了PLD2000系列產(chǎn)品，專門用于解決粉液在線混合分散的問題

PLD2000設(shè)備的特殊結(jié)構(gòu)和工作原理：裝備了一個特別設(shè)計的轉(zhuǎn)子，一個入口進液體，一個入口進粉體，使兩相在瞬間接觸時就能及時的將粉體打散。機器可以循環(huán)操作直到所有粉末加入完畢，然后密封加料入口，在腔體中繼續(xù)分散混合。根據(jù)產(chǎn)品要求，粉末的性狀，zui高添加量可達80%。另外，如果粘度過高，也可在入口前加一臺泵。
（更多二氧化硅分散問題請咨詢工程師：段明明，公司有樣機可提供免費實驗）

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關(guān)鍵詞：混合機混合設(shè)備分散設(shè)備