芯片制造對水質(zhì)的要求是十分苛刻的，對于大眾來說，平時接觸的自來水（飲用水）的渾濁度小于1NTU（根據(jù)現(xiàn)行《生活飲用水衛(wèi)生標準》GB5749-2022）。這樣的自來水在肉眼看來，就已經(jīng)非常干凈了。但是，這在電子行業(yè)，尤其是芯片制造領域，還差得很遠很遠。在芯片生產(chǎn)過程看來，自來水里面雜質(zhì)多到什么程度？就好比是一鍋粥！所以，芯片行業(yè)需要對生產(chǎn)用水進行苛刻的純化處理。

第一層次——去離子水：采用物理、化學方法，去除溶于水中的電解質(zhì)，獲得電阻率在0.1~10MΩ·cm的水（真正純凈的水可被視為絕緣體，生活中的水導電，是因為其中有雜質(zhì)）。這個過程去除了水中的電解質(zhì)，但溶于水中的非電解質(zhì)（如有機物、微生物、顆粒物、溶解性氣體等）大部分未被去除。

第二層次——純水：采用物理、化學方法，去除了水中的幾乎全部電解質(zhì)與非電解質(zhì)，且水中陽離子和陰離子、有機物、顆粒物、微生物等含量受到一定控制。此時，純水的電阻率在10~18.2MΩ·cm（25℃），可以被視其為絕緣體了。

第三層次——超純水：如果將水中陽離子、陰離子、有機物、顆粒物、微生物都進行嚴格控制，這還不算完，再對水中溶解氣體進行嚴格控制，此時水的電阻率達到18.2MΩ·cm（25℃）以上（接近理論值18.25MΩ·cm，25℃時）。

萊特萊德超純水設備結(jié)合膜分離技術(shù)，利用反滲透結(jié)合EDI裝置制備超純水，出水電阻率可達18.2MΩ.cm（25℃），滿足半導體生產(chǎn)用水的需求。同時，設備還配備了反滲透預脫鹽技術(shù)，以確保設備的出水水質(zhì)。同時，EDI處理裝置產(chǎn)生的廢水較少，不會污染環(huán)境，具有較高的環(huán)境效益和經(jīng)濟效益，具有廣闊的發(fā)展前景。

超純水設備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守、安裝簡便、操作方便等優(yōu)勢，出水水質(zhì)符合電池用水相關標準，為半導體用水保駕護航。隨著超純水設備技術(shù)不斷完善，開啟了各行業(yè)生產(chǎn)發(fā)展的新局面。許多企業(yè)在生產(chǎn)過程中對水質(zhì)純度有不同的要求，并得到了廣泛的應用，如清洗設備用水、精密產(chǎn)品生產(chǎn)用水、檢測用水等。