伴隨著工業(yè)技術(shù)網(wǎng)絡(luò)技術(shù)的不斷提高，大家都對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)都有著較大的認(rèn)知，但是對(duì)于半導(dǎo)體生產(chǎn)至關(guān)重要的超純水設(shè)備卻了解的非常少。在復(fù)雜的芯片及半導(dǎo)體材料等高精尖技術(shù)發(fā)展中，純水處理設(shè)備生產(chǎn)廠家為其起到了非常大的助力。當(dāng)芯片的精密度越來(lái)越高，超純水作為生產(chǎn)環(huán)節(jié)中的關(guān)鍵角色，對(duì)水質(zhì)純度的要求也越來(lái)越高。不同的制備技術(shù)也在迅速的發(fā)展起來(lái)，已成為工業(yè)用水廣泛的應(yīng)用于一個(gè)核心門類。
另外硅片生產(chǎn)的濕法工藝采用腐蝕性和氧化性的化學(xué)溶劑進(jìn)行噴霧、擦洗、蝕刻和溶解隨機(jī)缺陷，使硅片表面的雜質(zhì)與溶劑發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成可溶性物質(zhì)、氣體或直接脫落，必須利用超純水清洗硅片表面并進(jìn)行干燥，才可以獲得滿足潔凈度要求的硅片。
由此可見，生產(chǎn)芯片的用水并非日常可見的自來(lái)水，或者是純凈水，半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)和清洗半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示器、高精度電路板、光電器件等各種電子器件的時(shí)候，都需要用到電阻率為18兆歐以上的超純水，這樣的超純水幾乎不導(dǎo)電，不會(huì)影響電子產(chǎn)品的性能，同時(shí)水中幾乎不含金屬離子，不會(huì)對(duì)復(fù)雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。當(dāng)集成電路的集成度越高，線寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也就越高。
半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)超純水的指標(biāo)要求，特別是晶圓制造，除了電阻率外，還集中反映在總有機(jī)碳、溶解氣體、顆粒物、菌群落、溶解氣、金屬離子、硅元素、硼元素等參數(shù)上(具體數(shù)據(jù)參考高頻科技超純水系統(tǒng)水質(zhì)指標(biāo))
可想而知，超純水的指標(biāo)要求越高，背后的制備工藝也越為繁復(fù)，對(duì)超純水系統(tǒng)的要求也更為嚴(yán)苛。
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