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taimei氧化鋁粉在新能源領域的需求及應用

時間:2025/2/7閱讀:203
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精細氧化鋁粉體通過對工業(yè)原材料的精密加工以適應不同行業(yè)的應用需求,其主要以工業(yè)氧化鋁為原料,通過提純、煅燒、研磨、均化、分級等加工工序,控制粉體晶體形貌、晶相轉化率、粒徑與分布、敏感特定元素、表面性能及活性等技術指標,使其具備絕緣、耐高溫、高導熱及化學性能穩(wěn)定等特點,可滿足不同下游領域的具體材料應用需求。目前,精細氧化鋁粉體作為電子材料的應用越來越受到重視,是生產電子陶瓷器件、電子玻璃、鋰電池隔膜、高壓電器、晶圓研磨拋光材料等產品的重要基礎材料,終端應用覆蓋了集成電路、消費電子、電力工程、電子通訊、新能源汽車、平板顯示、光伏發(fā)電等多個國家大力發(fā)展的重點領域。

鋰電池隔膜涂覆領域

精細氧化鋁是鋰電池隔膜涂覆的關鍵材料,隔膜表面單面或者雙面進行涂覆可以顯著提高高溫穩(wěn)定性,緩解隔膜熱收縮造成的電池正負極接觸、燃燒、爆炸的安全問題,經涂覆后隔膜厚度增加,隔膜的穩(wěn)定性和壽命都有顯著改善。

在涂覆技術路線方面,涂覆材料主要包括無機物涂覆、有機物涂覆和功能性多層涂覆。與有機涂覆和功能性多層涂覆技術相比,無機涂覆隔膜的可拉伸強度和熱收縮率更好,且技術更加成熟,下游客戶已形成產業(yè)化應用。

半導體陶瓷零部件領域

陶瓷具有高硬度、高彈性模量、高耐磨、高絕緣、耐腐蝕、低膨脹等優(yōu)點,可用作硅片拋光機、外延/氧化/擴散等熱處理設備、光刻機、沉積設備,半導體刻蝕設備,離子注入機等設備的零部件,因此精密陶瓷部件的研發(fā)生產直接影響半導體產業(yè)發(fā)展,其制備技術要求也越來越高。通常半導體設備用陶瓷有氧化鋁、氮化硅、氮化鋁、碳化硅等,其中,氧化鋁作為“性價比高”的精密陶瓷材料,在該領域有著非常普遍的應用。

氧化鋁陶瓷在半導體刻蝕設備中,主要采用高純Al2O3涂層或Al2O3陶瓷作為刻蝕腔體和腔體內部件的防護材料。除了腔體以外,等離子體設備的氣體噴嘴,氣體分配盤和固定晶圓的固定環(huán)等也需用到氧化鋁陶瓷。再例如在晶圓拋光工藝中,氧化鋁陶瓷可被廣泛應用于拋光板、拋光磨墊校正平臺、真空吸盤等。

高純度氧化鋁(Taimicron)

Taimicron是Daimei Chemical多年來種植的鋁制化合物合成技術出生的高純度,超細的高陶瓷粉末。 Taimicron是一種2(OH)3Alco4
基于銨劑量的合成(NH

用途

高強度和耐磨材料
人造骨骼和牙科材料,軸承等。

電子材料
IC板,半導體制造夾具,傳感器等。

光學材料
透明陶瓷,紅寶石,YAG等。

其他
各種填充劑,合成尖晶石,催化劑載體等

低溫可燒毀的氧化鋁

Taimicron用于燒結的是一種高純度α-鋁粉,在極低的溫度下燒結,并且由于主要顆粒是細的和單個粒子而變得致密性。

■功能

這是一種高純度超細粉末,超過99.99%。

它在低溫下被燒結并致密。
1250°C至1300°C下發(fā)射,使其越來越密集至98%或更多的理論密度。

可以獲得表現出氧化鋁原始特性的出色燒結物體。
該陶瓷具有出色的強度,高硬度,耐耐磨性和耐腐蝕性。

透明的陶瓷很容易獲得。

■代表性值

年級

tm-uf

TM-DA

TM-DAR

TM-5D

結晶形式

α-鋁

α-鋁

α-鋁

α-鋁

特定的表面積

平方米/g

17.0

12.5

13.5

9.0

初級粒徑*1

µm

0.09

0.12

0.12

0.20

靜態(tài)散裝密度

g/cm³

0.8

0.8

0.9

0.8

水龍頭密度

g/cm³

1.0

0.9

1.0

1.1

成型密度*2

g/cm³

2.3

2.2

2.3

2.3

燒結密度

g/cm³

3.93 *3

3.95 *4

3.96 *4

3.93 *5

*1:從SEM照片中測量 *2:單軸壓制成型(98MPA)
*3:1250℃ *4:1350℃ *5:1400℃(每個射擊1小時)

過渡氧化鋁

具有γ和θ作為主要相的氧化鋁。

■功能

它是一種具有極為細顆粒的粉末,并且表面積較大。

它具有較高的活性和出色的反應性。

■代表性值

年級

TM-100

TM-300

TM-100D

TM-300D

結晶形式

θ-鋁

γ-鋁

θ-鋁

γ-鋁

特定的表面積

平方米/g

120

220

120

200

初級粒徑*1

µm

0.014

0.007

0.014

0.010

靜態(tài)散裝密度

g/cm³

0.15

0.05

0.40

0.40

水龍頭密度

g/cm³

0.18

0.08

0.60

0.60

 

 

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