FT150
伴隨光學(xué)系的升級(jí)，實(shí)現(xiàn)相比以往機(jī)型更高的靈敏度
對(duì)應(yīng)nm級(jí)Au鍍層及數(shù)十nm Pd鍍層測(cè)量效率提升2倍以上
FT150L
對(duì)應(yīng)600 mm×600 mm 大型線路板
配備防X射線泄漏的封閉結(jié)構(gòu)樣品室
FT150H
對(duì)應(yīng)微區(qū)Sn、Ag等鍍層測(cè)量
對(duì)應(yīng)陶瓷電子組件端子、Sn-Ag無(wú)鉛焊錫等

FT150配備新型聚光光學(xué)系和更高規(guī)格的Vortex檢測(cè)器，能夠得到比以往機(jī)型更高強(qiáng)度的X射線熒光。
相比以往機(jī)型（FT9500X系列），對(duì)應(yīng)微小金屬鍍層測(cè)量的效率提高2倍以上，在相同的測(cè)量時(shí)間下能夠提高其測(cè)量精度。
實(shí)現(xiàn)高精度并且高效的測(cè)量。

項(xiàng)目	描述
X射線照射方向	上方照射式
上方照射式	Al (13) ~ U(92)
測(cè)定環(huán)境	大氣
Ｘ射線發(fā)生部	45kV, 鉬Mo 靶材
設(shè)計(jì)	毛細(xì)管聚焦Poly-capillary
管電流	1000μA　可變
X射線檢測(cè)部	Silicon Drift Detector (SDD)
測(cè)定面積	φ0.030mm(FWHM 0.017mm)
樣品面積	長(zhǎng)400mm、寬300mm、高200mm
電動(dòng)XY樣品臺(tái)驅(qū)動(dòng) 移動(dòng)范圍	400×300mm
CCD Camera	1百萬(wàn)相數(shù)
對(duì)焦模式	雷射自動(dòng)對(duì)焦
測(cè)量模式	Thin Film FP (5層, 10元素)/檢量線法
選配	FT150H : 鎢W target  FT150L : 鉬Mo target