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二維材料設備CVD系統(tǒng)（型號：BTF-1200C-II-SL-CVD） 實驗室臭氧發(fā)生機
設備特點此款CVD系統(tǒng)前端配有可加熱到400℃的預加熱器，輔助二維材料蒸發(fā)，后端為雙溫區(qū)管式爐，溫度控制精確，操作簡便
雙獨立爐膛滑動滑軌爐BTF-1200C-II-SSL-CVD 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點1.此款設備提供兩個獨立滑動的溫場，兩溫場獨立控制，每個溫場的加熱區(qū)的長度為230mm，可在實驗過程中推進或推離樣品，提供兩個位置的快升降溫
流化床—化學氣相沉積法可控及批量制備碳納米管設備 實驗室臭氧發(fā)生機
設備簡介：流化床—化學氣相沉積法可控及批量制備碳納米管設備，該設備包括有：自動加液裝置、超聲波霧化發(fā)生裝置、氣體供應裝置、氣體流量控制裝置、三溫區(qū)流化床反應器及...
復合氧化物氫分離膜制備用CVD設備 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點復合氧化物氫分離膜制備用CVD設備，可以實現在多孔氧化鋁陶瓷管和陶瓷片上化學沉積上氧化物（SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2）和復合氧化物（Al2...
高真空自動循環(huán)設備（型號：BTF-1200C-HV） 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點該款設備由我公司和新疆理化技術研究所共同研制的高真空自動循環(huán)設備，內外雙熱電偶控制，內熱電偶制動，使用者可以設定設備循環(huán)溫度點，可根據內熱電偶測得的溫度...
低真空CVD系統(tǒng) (BTF-1500C-3ZL) 實驗室臭氧發(fā)生機
設備特點此款CVD系統(tǒng)是由多通道高精度的質量流量計、低真空機組以及1500度高溫管式爐組成
低真空CVD系統(tǒng)（BTF-1200C-III-SL-4ZL） 實驗室臭氧發(fā)生機
低真空CVD系統(tǒng)（BTF-1200C-III-SL-4ZL）
雙溫區(qū)磁力拉桿設備BTF-1200C-II-SL 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點此設備具有兩個獨立的溫場，溫場之外配有磁力拉桿和石英料舟，并配有內探熱電偶，可實現在實驗過程中將固態(tài)源（如硫粉、硒粉等）推進熱場，并同時可檢測溫度
智能型雙溫區(qū)等離子化學氣相沉積系統(tǒng)(型號：BTF-1200C-II-AS-500A) 實驗室臭氧發(fā)生...
主要特點：一、此設備的高溫真空電阻爐溫度控制系統(tǒng)采用經典的閉環(huán)負反饋控制系統(tǒng)，控溫儀表選用智能型程序溫度調節(jié)儀表控溫，電力調制器控制；負載采用小電壓大電流控制，...
三溫區(qū)智能型等離子體化學沉積系統(tǒng)（BTF-1200C-III-500A-PECVD） 實驗室臭氧發(fā)生...
主要特點：此款智能型等離子體增強化學沉積系統(tǒng)的高溫真空爐加熱腔體采用進口氧化鋁纖維制品，其極低的熱導率和比熱容，保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱，特別適合于制備大面...
連續(xù)進出料等離子體增強回轉設備-BTF-1200C-RP-PECVD 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(tǒng)（PECVD）
回轉PECVD BTF-1200C-R-PECVD 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點：本款設備可以做金屬復合石墨烯材料，是目前Z的金屬復合材料制備設備
PECVD-500A/PECVD-S-150A 等離子輝光滑軌PECVD系統(tǒng) 實驗室臭氧發(fā)生機
實驗機理PECVD是借助于輝光放電等方法產生等離子體，輝光放電等離子體中：1,電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，...請輸入賬號
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