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武漢茂迪科技有限公司
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| 參 考 價 | 面議 |
產品型號MA/BA4
品 牌
廠商性質其他
所 在 地武漢市
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更新時間：2024-04-26 15:32:20瀏覽次數(shù)：72次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線用于工業(yè)研究和生產領域的功能強大的光刻及鍵合對準機MA/BA4代專業(yè)版系列是蘇斯公司半自動光刻機的一個多面設備平臺，應用很廣泛
MA/BA 4 代專業(yè)版系列是蘇斯公司半自動光刻機的一個多面設備平臺，應用很廣泛。支持最小尺寸達 150 毫米或 200 毫米的基板。它的工具和選項眾多，工藝參數(shù)可調整，因此具有的靈活性，既可用于科研、開發(fā)，也可用于生產工藝。MA/BA 4 代專業(yè)版的設計理念成熟，技術，是開發(fā)未來技術的理想設備。它為微機電系統(tǒng)、高級封裝、3D 集成、化合物半導體領域樹立了新的。
MA/BA 4 代專業(yè)版系列可以便捷地集成到生產環(huán)境中，并且與蘇斯公司的自動化設備兼容。因此，可便捷地實施從研發(fā)到生產的工藝轉化。該系列提供的、高度自動化的功能（工業(yè)標準）。自動結構識別、自動校準功能提高了工藝速度，同時降低了廢品率。
高質量的光學和曝光系統(tǒng)、的校準技術，使 MA/BA 4 代專業(yè)版系列成為開辟新天地的理想工具。它具有各種微米、納米結構復形壓印技術作為支持。而且，改裝非常簡便，晶圓與晶圓的對準精度非常高，熔接鍵合簡單，基板表面等離子處理準備妥當。
在光刻工藝中，只需對準器件晶圓同側的結構（例如再布線層、微凸點 等），用頂部對準功能將掩模位置標記對準晶圓位置標記。 根據襯底的特性，這可以用存儲的晶圓位置數(shù)據或者用兩個現(xiàn)場照片 、SUSS MicroTec 開發(fā)的DirectAlign™ 直接對準技術實現(xiàn)。
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