ABM雙面對(duì)準(zhǔn)（BSV）光刻機(jī)
ABM350BSV ¥1500000污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
上海螣芯電子科技有限公司
會(huì)員1.png)
上海螣芯電子科技有限公司
產(chǎn)品型號(hào)ABM350BSV
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地上海市
聯(lián)系方式：婁先生查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2025-03-11 22:05:32瀏覽次數(shù)：129次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線| 產(chǎn)地 | 進(jìn)口 |
|---|
ABM雙面對(duì)準(zhǔn)（BSV）光刻機(jī)ABM350BSV
主要配置: 6"，8"光源系統(tǒng) 可支持2"，3"，4"，6"，8"（圓/方片）及碎片光刻（支持特殊工藝卡盤設(shè)計(jì)） 手動(dòng)系統(tǒng)，半自動(dòng)系統(tǒng), 支持電源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波長(zhǎng)（可選項(xiàng)）<1.84度； CCD或顯微鏡對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
ABM雙面對(duì)準(zhǔn)（BSV）光刻機(jī)ABM350BSV
光學(xué)系統(tǒng)ABM雙面對(duì)準(zhǔn)（BSV）光刻機(jī)ABM350BSV
光學(xué)系統(tǒng)
曝光時(shí)間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)；
365-400nm光強(qiáng)傳感及電源供應(yīng)控制電路及反饋閉環(huán)；
聲控功率警報(bào)裝置可防止系統(tǒng)功率超過(guò)設(shè)定指標(biāo)；
有安全保護(hù)裝置的溫度及其氣流傳感器；
全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角: <1.84度；
波長(zhǎng)濾片檢查及安裝裝置；
抗衍射反射功能高效反光鏡；
二向色的防熱透鏡裝置；
防汞燈泄漏裝置；
配備蠅眼棱鏡裝置；
配備近紫外光源，
--220 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 8-10 mW/ cm2
--254 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 12-14 mW/ cm2
--365 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 18-20 mW/ cm2
--400 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 30-35 mW/ cm2
主要配置:
6"，8"光源系統(tǒng)
可支持2"，3"，4"，6"，8"（圓/方片）及碎片光刻（支持特殊工藝卡盤設(shè)計(jì)）
手動(dòng)系統(tǒng)，半自動(dòng)系統(tǒng),
支持電源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波長(zhǎng)（可選項(xiàng)）<1.84度；
CCD或顯微鏡對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
主要性能指標(biāo)：:
光強(qiáng)均勻性Beam Uniformity:
--<±1% over 2" 區(qū)域
--<±2% over 4" 區(qū)域
--<±2.5% over 6" 區(qū)域
接觸式樣曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um
接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）： 0.5 um
支持接近式曝光，特征尺寸CD:
--0.8um 硬接觸
--1um 20 um 間距時(shí)
--2um 50um 間距時(shí)
正面對(duì)準(zhǔn)精度±0.5um
支持正膠、負(fù)膠及Su8膠等的厚膠光刻，特征尺寸：100um-300um
支持LED優(yōu)異電流控制技術(shù)PSS工藝光刻
支持真空、接近式、接觸式曝光
支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環(huán)保在線 設(shè)計(jì)制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼
