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大型HMDS真空烘箱，4門HMDS真空烤箱 是半導(dǎo)體光刻工藝中的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于基片表面預(yù)處理，通過六甲基二硅氮烷（HMDS）涂布增強(qiáng)光刻膠與基片的黏附性。

硅烷沉積設(shè)備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米抗粘設(shè)備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)較好的轉(zhuǎn)移,復(fù)制.

抗黏劑蒸鍍機(jī) 抗粘劑涂膠機(jī) 硅烷氣相鍍膜機(jī)通過精確控制烘箱溫度（100-200℃）、處理時(shí)長(zhǎng)及保持時(shí)間等參數(shù)，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷...

抗粘劑蒸鍍機(jī) 硅烷鍍膜機(jī)氣相沉積系統(tǒng)硅烷偶聯(lián)劑（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等）作為一類重要的有機(jī)硅化合物，在材料表面改性、復(fù)合...

HMDS涂布機(jī)，HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理， HMDS 涂布的原理，較常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻膠的黏附性工藝中，實(shí)...

可程式HMDS蒸鍍?cè)O(shè)備，HMDS真空鍍膜機(jī)通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了H...

氣相成底膜烤箱，HMDS蒸氣淀積系統(tǒng)用于除去硅片表面的污染物（顆粒、有機(jī)物、工藝殘余、可動(dòng)離子），除去水蒸氣，使基底表面由親水性變?yōu)樵魉?，增?qiáng)表面的黏附性（H...

智能型HMDS涂膠機(jī)，自動(dòng)HMDS涂膠鍍膜機(jī)也稱為HMDS處理，是用于使晶片表面呈疏水性的處理。

HMDS涂膠機(jī)，智能型HMDS涂 膠機(jī)將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物...

光刻工藝HMDS鍍膜機(jī)，MOS器件HMDS鍍膜 機(jī)涂布工藝是改善晶圓表面接觸角的關(guān)鍵步驟。

HMDS鍍膜機(jī)通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降...

HMDS涂膠系統(tǒng)，HMDS涂膠烤箱通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處...

HMDS鍍膜機(jī)設(shè)備。整個(gè)系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)醫(yī)用級(jí)316L不銹鋼材料制作，無發(fā)塵材料，適用百級(jí)光刻間凈化環(huán)境。

抗粘劑蒸鍍機(jī)，抗粘層鍍膜機(jī)在基片與彈性支撐層之間還形成有抗黏層，抗黏層一般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。

脫模劑蒸鍍機(jī)，脫 模劑鍍膜烤箱應(yīng)用于半導(dǎo)體，光電、電子行業(yè)硅片、砂紙或石英硬模板等材料。