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氮氣真空儲存箱 真空防潮柜定制用于半導體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、電子元器件、高級金屬制品、厭氧產(chǎn)品、易氧化產(chǎn)品等及機金屬加工件與各類不便于冷藏...

乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機 VTMS沉積系統(tǒng) 是含硅基和羥基的硅烷偶聯(lián)劑，可用于提高不同復合材料的潤濕性和超疏水性。

PETG/IPN/TPU膜材料烘箱牙膠片防氧化烘箱無氧烘箱也適用于LCP膜固化處理、PI固化、BCB等材料固化生產(chǎn)。

NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐通過其化學性質(zhì)，在光刻膠中發(fā)揮著調(diào)整極性、優(yōu)化圖形轉(zhuǎn)移效果的重要作用，是微細制造領(lǐng)域的關(guān)鍵材料之一。

高溫低濕烘箱 超低濕高溫烤箱在晶圓封裝前需在150~180℃、濕度≤5%RH的環(huán)境中進行去濕處理，防止金屬鍵合層氧化失效?

潔凈無氧烤箱 充氮潔凈烤箱 高溫固化烤箱應用場景半導體行業(yè)?：晶圓脫泡、LCP纖維烘烤、光刻膠固化（如PI/BCB/PBO涂層）/晶圓退火、電子元器件制造（前烘...

紫外固化烘箱 真空紫外烘箱 UV固化真空烤箱主要應用于UV膠水、UV 油墨、UV光油、UV 油漆、UV 涂料、薄膜等 UV 光感材料的固化，3D打印固化，新型材...

程控真空干燥箱 可程式真空烘箱 真空烤箱?智能控溫系統(tǒng)?：PID精準調(diào)節(jié)技術(shù)，溫度波動≤±0.5℃，確保材料干燥均勻性，避免熱敏成分破壞。?真空環(huán)境優(yōu)...

桌上型無氧烘箱 實驗高溫無氧固化爐是一種專為高精度電子元件、IC/芯片、PI/BCB/CPI/BPO等膠水等材料設計的緊湊型固化設備，結(jié)合無氧環(huán)境與高效加熱技術(shù)...

大型HMDS真空烘箱，4門HMDS真空烤箱 是半導體光刻工藝中的關(guān)鍵設備，主要用于基片表面預處理，通過六甲基二硅氮烷（HMDS）涂布增強光刻膠與基片的黏附性。

硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米抗粘設備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實現(xiàn)結(jié)構(gòu)較好的轉(zhuǎn)移,復制.

硅烷沉積系統(tǒng) 氣相沉積設備硅烷涂膠機是一種用于硅烷（Siih?）作為前驅(qū)體的薄膜沉積設備，主要用于半導體、納米壓印脫模工藝、光伏（太陽能電池）、顯示面板、玻璃、...

智能型無塵無氧烘箱高溫氮氣無氧PI烤箱電子膠體固化：銀膠/BCB膠/光刻膠高溫固化（300-450℃）晶圓加工：退火處理、PI膜烘烤（±1℃波動精度）...

抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機通過精確控制烘箱溫度（100-200℃）、處理時長及保持時間等參數(shù)，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷...

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機氣相沉積系統(tǒng)硅烷偶聯(lián)劑（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等）作為一類重要的有機硅化合物，在材料表面改性、復合...

疏水處理設備疏水性處理系統(tǒng) HMDS預處理是一種改善物體表面性質(zhì)的技術(shù)，使其具有疏水性，即不易被液體濕潤。

表面疏水性處理設備陶瓷玻璃疏水處理機通過氣相涂布硅烷偶聯(lián)劑HMDS實現(xiàn)陶瓷表面疏水性能的提高，陶瓷表面接觸角為118?135度，且疏水材料與陶瓷基體的的附著性能...

納米陶瓷材料表面疏水HMDS處理系統(tǒng)生產(chǎn)工藝周期短，提高生產(chǎn)效率；修飾液用量極少，節(jié)約成本90%；閉環(huán)的工藝過程，安全系數(shù)高。

真空存儲箱真空保存箱 桌上真空儲存柜用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體， 電子產(chǎn)品（半導體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片...

MSD烘箱高溫超低濕烘箱濕敏烤箱 烘焙容易產(chǎn)生老化，以及烘焙受潮超過 0.1wt%的元件產(chǎn)生損 害等原因，推薦使用 40°C + 5%RH 或是 90...